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Semiconductor Science And Technology

Semiconductor Science And TechnologySCIE

國際簡(jiǎn)稱:SEMICOND SCI TECH  參考譯名:半導(dǎo)體科技

  • 中科院分區(qū)

    4區(qū)

  • CiteScore分區(qū)

    Q2

  • JCR分區(qū)

    Q3

基本信息:
ISSN:0268-1242
E-ISSN:1361-6641
是否OA:未開放
是否預(yù)警:否
TOP期刊:否
出版信息:
出版地區(qū):ENGLAND
出版商:IOP Publishing Ltd.
出版語言:English
出版周期:Monthly
出版年份:1986
研究方向:工程技術(shù)-材料科學(xué):綜合
評(píng)價(jià)信息:
影響因子:1.9
H-index:99
CiteScore指數(shù):4.3
SJR指數(shù):0.411
SNIP指數(shù):0.741
發(fā)文數(shù)據(jù):
Gold OA文章占比:10.23%
研究類文章占比:95.85%
年發(fā)文量:193
自引率:0.0526...
開源占比:0.0715
出版撤稿占比:0
出版國人文章占比:0.19
OA被引用占比:0.0493...
英文簡(jiǎn)介 期刊介紹 CiteScore數(shù)據(jù) 中科院SCI分區(qū) JCR分區(qū) 發(fā)文數(shù)據(jù) 常見問題

英文簡(jiǎn)介Semiconductor Science And Technology期刊介紹

Devoted to semiconductor research, Semiconductor Science and Technology's multidisciplinary approach reflects the far-reaching nature of this topic.

The scope of the journal covers fundamental and applied experimental and theoretical studies of the properties of non-organic, organic and oxide semiconductors, their interfaces and devices, including:

fundamental properties

materials and nanostructures

devices and applications

fabrication and processing

new analytical techniques

simulation

emerging fields:

materials and devices for quantum technologies

hybrid structures and devices

2D and topological materials

metamaterials

semiconductors for energy

flexible electronics.

期刊簡(jiǎn)介Semiconductor Science And Technology期刊介紹

《Semiconductor Science And Technology》自1986出版以來,是一本工程技術(shù)優(yōu)秀雜志。致力于發(fā)表原創(chuàng)科學(xué)研究結(jié)果,并為工程技術(shù)各個(gè)領(lǐng)域的原創(chuàng)研究提供一個(gè)展示平臺(tái),以促進(jìn)工程技術(shù)領(lǐng)域的的進(jìn)步。該刊鼓勵(lì)先進(jìn)的、清晰的闡述,從廣泛的視角提供當(dāng)前感興趣的研究主題的新見解,或?qū)彶槎嗄陙砟硞€(gè)重要領(lǐng)域的所有重要發(fā)展。該期刊特色在于及時(shí)報(bào)道工程技術(shù)領(lǐng)域的最新進(jìn)展和新發(fā)現(xiàn)新突破等。該刊近一年未被列入預(yù)警期刊名單,目前已被權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄,得到了廣泛的認(rèn)可。

該期刊投稿重要關(guān)注點(diǎn):

Cite Score數(shù)據(jù)(2024年最新版)Semiconductor Science And Technology Cite Score數(shù)據(jù)

  • CiteScore:4.3
  • SJR:0.411
  • SNIP:0.741
學(xué)科類別 分區(qū) 排名 百分位
大類:Engineering 小類:Electrical and Electronic Engineering Q2 305 / 797

61%

大類:Engineering 小類:Condensed Matter Physics Q2 167 / 434

61%

大類:Engineering 小類:Materials Chemistry Q2 137 / 317

56%

大類:Engineering 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q2 126 / 284

55%

CiteScore 是由Elsevier(愛思唯爾)推出的另一種評(píng)價(jià)期刊影響力的文獻(xiàn)計(jì)量指標(biāo)。反映出一家期刊近期發(fā)表論文的年篇均引用次數(shù)。CiteScore以Scopus數(shù)據(jù)庫中收集的引文為基礎(chǔ),針對(duì)的是前四年發(fā)表的論文的引文。CiteScore的意義在于,它可以為學(xué)術(shù)界提供一種新的、更全面、更客觀地評(píng)價(jià)期刊影響力的方法,而不僅僅是通過影響因子(IF)這一單一指標(biāo)來評(píng)價(jià)。

歷年Cite Score趨勢(shì)圖

中科院SCI分區(qū)Semiconductor Science And Technology 中科院分區(qū)

中科院 2023年12月升級(jí)版 綜述期刊:否 Top期刊:否
大類學(xué)科 分區(qū) 小類學(xué)科 分區(qū)
工程技術(shù) 4區(qū) ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程:電子與電氣 MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學(xué):綜合 PHYSICS, CONDENSED MATTER 物理:凝聚態(tài)物理 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

中科院分區(qū)表 是以客觀數(shù)據(jù)為基礎(chǔ),運(yùn)用科學(xué)計(jì)量學(xué)方法對(duì)國際、國內(nèi)學(xué)術(shù)期刊依據(jù)影響力進(jìn)行等級(jí)劃分的期刊評(píng)價(jià)標(biāo)準(zhǔn)。它為我國科研、教育機(jī)構(gòu)的管理人員、科研工作者提供了一份評(píng)價(jià)國際學(xué)術(shù)期刊影響力的參考數(shù)據(jù),得到了全國各地高校、科研機(jī)構(gòu)的廣泛認(rèn)可。

中科院分區(qū)表 將所有期刊按照一定指標(biāo)劃分為1區(qū)、2區(qū)、3區(qū)、4區(qū)四個(gè)層次,類似于“優(yōu)、良、及格”等。最開始,這個(gè)分區(qū)只是為了方便圖書管理及圖書情報(bào)領(lǐng)域的研究和期刊評(píng)估。之后中科院分區(qū)逐步發(fā)展成為了一種評(píng)價(jià)學(xué)術(shù)期刊質(zhì)量的重要工具。

歷年中科院分區(qū)趨勢(shì)圖

JCR分區(qū)Semiconductor Science And Technology JCR分區(qū)

2023-2024 年最新版
按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 211 / 352

40.2%

學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 301 / 438

31.4%

學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q3 50 / 79

37.3%

按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
學(xué)科:ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC SCIE Q3 238 / 354

32.91%

學(xué)科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 293 / 438

33.22%

學(xué)科:PHYSICS, CONDENSED MATTER SCIE Q3 51 / 79

36.08%

JCR分區(qū)的優(yōu)勢(shì)在于它可以幫助讀者對(duì)學(xué)術(shù)文獻(xiàn)質(zhì)量進(jìn)行評(píng)估。不同學(xué)科的文章引用量可能存在較大的差異,此時(shí)單獨(dú)依靠影響因子(IF)評(píng)價(jià)期刊的質(zhì)量可能是存在一定問題的。因此,JCR將期刊按照學(xué)科門類和影響因子分為不同的分區(qū),這樣讀者可以根據(jù)自己的研究領(lǐng)域和需求選擇合適的期刊。

歷年影響因子趨勢(shì)圖

發(fā)文數(shù)據(jù)

2023-2024 年國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計(jì)
  • 國家/地區(qū)數(shù)量
  • CHINA MAINLAND257
  • USA139
  • India121
  • GERMANY (FED REP GER)95
  • South Korea90
  • England64
  • Japan64
  • France55
  • Russia52
  • Taiwan31

本刊中國學(xué)者近年發(fā)表論文

  • 1、Sub-band gap infrared absorption in Si implanted with Mg

    Author: Wang, Mao; Shaikh, M. S.; Kentsch, U.; Heller, R.; Zhou, Shengqiang

    Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2023; Vol. 38, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/aca3ca

  • 2、Emission and capture characteristics of electron trap (E-emi=0.8 eV) in Si-doped beta-Ga2O3 epilayer

    Author: Qu, Haolan; Chen, Jiaxiang; Zhang, Yu; Sui, Jin; Gu, Yitian; Deng, Yuxin; Su, Danni; Zhang, Ruohan; Lu, Xing; Zou, Xinbo

    Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2023; Vol. 38, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/aca045

  • 3、Straightforward synthesis and mechanism insight of TiO2/a'-AgVO3 heterostructure with enhanced photocatalytic activity

    Author: Liu, Yangbin; Liu, Nian; Lin, Minghua; Zhou, Yun; Ouyang, Xiaoping

    Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2023; Vol. 38, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/aca625

  • 4、The interplay of process parameters and influence on the AlN films on sapphire fabricated by DC magnetron sputtering and annealing

    Author: Liu, Huan; Guo, Wei

    Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2023; Vol. 38, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/aca8ca

  • 5、Low-temperature in situ deposited CuI-based hole-transporter for perovskite solar cells efficiency enhancement

    Author: Li, Hang; Fu, Chao; Shi, Lei; Li, Chaorong; Pan, Jiaqi; Zhang, Wenjun

    Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2023; Vol. 38, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/aca3c9

  • 6、Design of the GaN based CAVET with SiO2-InGaN hybrid current blocking layer

    Author: Li, Haiou; Kang, Dongxu; Qu, Kangchun; Liu, Xingpeng; Wan, Rongqiao

    Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2023; Vol. 38, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/aca626

  • 7、In-situ deposition of tungsten oxide hole-contact by Hot-Wire CVD and its application in dopant-free heterojunction solar cells

    Author: Guo, Cong; Li, Junjun; Liu, Run; Zhang, Dongdong; Qiu, Junyang; Zhuang, Zihan; Chen, Yang; Qiu, Qingqing; Liu, Wenzhu; Huang, Yuelong; Yu, Jian; Chen, Tao

    Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2023; Vol. 38, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/aca5ac

  • 8、Investigation of thermal stability and crystallization mechanism of Er-0.03(GeTe)(0.97) phase change material

    Author: Gu, Han; Wu, Weihua; Xu, Shengqing; Zhou, Xiaochen; Shen, Bo; Zhai, Jiwei

    Journal: SEMICONDUCTOR SCIENCE AND TECHNOLOGY. 2023; Vol. 38, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1088/1361-6641/aca520

投稿常見問題

通訊方式:IOP PUBLISHING LTD, DIRAC HOUSE, TEMPLE BACK, BRISTOL, ENGLAND, BS1 6BE。

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