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Journal Of Vacuum Science & Technology A

Journal Of Vacuum Science & Technology ASCIE

國際簡稱:J VAC SCI TECHNOL A  參考譯名:真空科學與技術學報

  • 中科院分區

    3區

  • CiteScore分區

    Q2

  • JCR分區

    Q3

基本信息:
ISSN:0734-2101
E-ISSN:1520-8559
是否OA:未開放
是否預警:否
TOP期刊:否
出版信息:
出版地區:UNITED STATES
出版商:AVS Science and Technology Society
出版語言:English
出版周期:Bimonthly
出版年份:1983
研究方向:材料科學:膜-工程技術
評價信息:
影響因子:2.4
H-index:100
CiteScore指數:5.1
SJR指數:0.569
SNIP指數:0.957
發文數據:
Gold OA文章占比:27.03%
研究類文章占比:97.60%
年發文量:333
自引率:0.1034...
開源占比:0.2737
出版撤稿占比:0
出版國人文章占比:0.03
OA被引用占比:0.2168...
英文簡介 期刊介紹 CiteScore數據 中科院SCI分區 JCR分區 發文數據 常見問題

英文簡介Journal Of Vacuum Science & Technology A期刊介紹

Journal of Vacuum Science & Technology A publishes reports of original research, letters, and review articles that focus on fundamental scientific understanding of interfaces, surfaces, plasmas and thin films and on using this understanding to advance the state-of-the-art in various technological applications.

期刊簡介Journal Of Vacuum Science & Technology A期刊介紹

《Journal Of Vacuum Science & Technology A》自1983出版以來,是一本材料科學優秀雜志。致力于發表原創科學研究結果,并為材料科學各個領域的原創研究提供一個展示平臺,以促進材料科學領域的的進步。該刊鼓勵先進的、清晰的闡述,從廣泛的視角提供當前感興趣的研究主題的新見解,或審查多年來某個重要領域的所有重要發展。該期刊特色在于及時報道材料科學領域的最新進展和新發現新突破等。該刊近一年未被列入預警期刊名單,目前已被權威數據庫SCIE收錄,得到了廣泛的認可。

該期刊投稿重要關注點:

Cite Score數據(2024年最新版)Journal Of Vacuum Science & Technology A Cite Score數據

  • CiteScore:5.1
  • SJR:0.569
  • SNIP:0.957
學科類別 分區 排名 百分位
大類:Physics and Astronomy 小類:Condensed Matter Physics Q2 135 / 434

69%

大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces and Interfaces Q2 19 / 57

67%

大類:Physics and Astronomy 小類:Surfaces, Coatings and Films Q2 45 / 132

66%

CiteScore 是由Elsevier(愛思唯爾)推出的另一種評價期刊影響力的文獻計量指標。反映出一家期刊近期發表論文的年篇均引用次數。CiteScore以Scopus數據庫中收集的引文為基礎,針對的是前四年發表的論文的引文。CiteScore的意義在于,它可以為學術界提供一種新的、更全面、更客觀地評價期刊影響力的方法,而不僅僅是通過影響因子(IF)這一單一指標來評價。

歷年Cite Score趨勢圖

中科院SCI分區Journal Of Vacuum Science & Technology A 中科院分區

中科院 2023年12月升級版 綜述期刊:否 Top期刊:否
大類學科 分區 小類學科 分區
材料科學 3區 MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS 材料科學:膜 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 3區 3區

中科院分區表 是以客觀數據為基礎,運用科學計量學方法對國際、國內學術期刊依據影響力進行等級劃分的期刊評價標準。它為我國科研、教育機構的管理人員、科研工作者提供了一份評價國際學術期刊影響力的參考數據,得到了全國各地高校、科研機構的廣泛認可。

中科院分區表 將所有期刊按照一定指標劃分為1區、2區、3區、4區四個層次,類似于“優、良、及格”等。最開始,這個分區只是為了方便圖書管理及圖書情報領域的研究和期刊評估。之后中科院分區逐步發展成為了一種評價學術期刊質量的重要工具。

歷年中科院分區趨勢圖

JCR分區Journal Of Vacuum Science & Technology A JCR分區

2023-2024 年最新版
按JIF指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS SCIE Q3 13 / 23

45.7%

學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 96 / 179

46.6%

按JCI指標學科分區 收錄子集 分區 排名 百分位
學科:MATERIALS SCIENCE, COATINGS & FILMS SCIE Q3 12 / 23

50%

學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 88 / 179

51.12%

JCR分區的優勢在于它可以幫助讀者對學術文獻質量進行評估。不同學科的文章引用量可能存在較大的差異,此時單獨依靠影響因子(IF)評價期刊的質量可能是存在一定問題的。因此,JCR將期刊按照學科門類和影響因子分為不同的分區,這樣讀者可以根據自己的研究領域和需求選擇合適的期刊。

歷年影響因子趨勢圖

發文數據

2023-2024 年國家/地區發文量統計
  • 國家/地區數量
  • USA368
  • Japan77
  • GERMANY (FED REP GER)61
  • South Korea56
  • France44
  • Sweden33
  • CHINA MAINLAND31
  • England29
  • Finland26
  • Netherlands26

本刊中國學者近年發表論文

  • 1、Selectivity dependence of atomic layer deposited manganese oxide on the precursor ligands on platinum facets

    Author: Lan, Yuxiao; Wen, Yanwei; Li, Yicheng; Yang, Jiaqiang; Cao, Kun; Shan, Bin; Chen, Rong

    Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002173

  • 2、Dynamic character of compositional sputter depth profiling by SIMS: A comparison of different models for quantitative profile evaluation

    Author: Hofmann, Siegfried; Zhong, Feng-Min; Yang, Hao; Wang, Jiang-Yong; Xu, Cong-Kang

    Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002233

  • 3、Aluminum nitride crystal-based photodetector with bias polarity-dependent spectral selectivity

    Author: Fan, Zelong; Qin, Zuoyan; Jin, Lei; Cao, Yuan; Yue, Zhongyu; Li, Baikui; Wu, Honglei; Sun, Zhenhua

    Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 1, pp. -. DOI: 10.1116/5.0133162

  • 4、Effect of plasma nitriding substrate current density on the adhesion strength of in situ PVD TiN coatings

    Author: Zhang, Xin; Tian, Xiu-bo; Gong, Chun-zhi; Liu, Xiang-li; Li, Jin

    Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002353

  • 5、Enhancement of discharge and mechanical properties of ta-C films by pulse-enhanced cathodic arc deposition

    Author: Wang, Benfu; Tian, Xiubo; Hu, Jian; Gong, Chunzhi; Liu, Xiangli; Li, Jin

    Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002352

  • 6、Physical properties of Zn-Sn-N films governed by the Zn/(Zn plus Sn) ratio

    Author: Ren, JunYan; Liang, LingYan; Liu, Xiaohan; Cao, Hongtao

    Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002454

  • 7、Method for extracting the intrinsic diffusion coefficient from grain boundary diffusion depth profile

    Author: Lian, Songyou; Fourie, Antonie J.; Wang, Jiangyong; Swart, Hendrik C.; Terblans, Jacobus Johannes

    Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002400

  • 8、Interface-mediated ferroelectricity in PMN-PT/PZT flexible bilayer via pulsed laser deposition

    Author: Chen, Rong; Qi, Zilian; Xiong, Yingfei; Li, Yicheng; Zhang, Xiaodong; Cao, Kun

    Journal: JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A. 2023; Vol. 41, Issue 3, pp. -. DOI: 10.1116/6.0002386

投稿常見問題

通訊方式:A V S AMER INST PHYSICS, STE 1 NO 1, 2 HUNTINGTON QUADRANGLE, MELVILLE, USA, NY, 11747-4502。

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